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二元微透鏡陣列采用先進的半導體微納加工工藝，通過2至16階浮雕臺階結(jié)構(gòu)精密逼近理想光學曲面。該技術(shù)可在0.248μm至10μm的寬光譜范圍內(nèi)工作，支持圓形、矩形、六邊形等多種單元構(gòu)型，口徑覆蓋0.01mm至4mm。選用石英、硅、鍺等材料基底，衍射效率高達95%，兼具高精度與高性價比。其卓越的光束勻化、分束與波前調(diào)控能力，是激光加工、3D傳感、光場成像及紅外制導等高端系統(tǒng)的核心光學元件，為現(xiàn)代光電應用提供高效解決方案。
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二元微透鏡列陣
二元微透鏡列陣指的是利用臺階狀的面形結(jié)構(gòu)來趨近于連續(xù)浮雕結(jié)構(gòu)的微透鏡列陣。該元件利用二元掩模通過多次套刻完成多個臺階結(jié)構(gòu)的制備，可制備結(jié)構(gòu)指標參數(shù)如下：
波段范圍：0.248μm ~10μm；
子口徑形狀：圓形、矩形、正六邊形、環(huán)形等
子透鏡口徑：0.01mm~4mm
透鏡材料：石英、硅、鍺、硒化鋅等
典型臺階數(shù)：2、4、8、16
衍射效率：75%~95%
| 波長（μm） | 子口徑（μm） | 子口徑形狀 | 焦距（mm） | 列陣數(shù) | 基片尺寸(mm) |
| 1.064 | 275×275 | 四邊形 | 8 | 30×30 | φ14×3 |
| 1.064 | 1000×1000 | 四邊形 | 30 | 16×16 | φ30×5 |
| 0.55 | 1680（平行對邊） | 六邊形 | 29.7 | 37×37 | φ14×3 |
| 0.5 | 1680（平行對邊） | 六邊形 | 69.8 | 7×9 | φ20×3 |
| 1.064 | 1750×1750 | 正方形 | 90 | 6×6 | φ20×3 |
